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                                2018工博会——上海国家会展中心,SMEE与您相约!

                                20届中国国际工业博览会(工博会)开幕在即,本次展会上SMEE采用双展位的形式,将隆重推出应用于IC前道制造的600系列光刻机以及应用于AM-OLEDLCD显示屏TFT电路制造的200系列光刻机。

                                SMEE 600系列IC前道投影光刻机可兼容200mm300mm硅片,采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术,以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术,实现可用于前道IC制造90nm关键层和非关键层的先进光刻设备;SMEE高分辨率6200系列光刻机创新性采用了双投影曝光系统和双掩模台加单基板台的全新技术,实现使用6英寸双掩模同时在6代基板上的扫描曝光,满足目前高分辨率的LTPS-TFT的制造要求,该技术属于国际首创。

                                届时敬请莅临SMEE展台参观指导,希望通过这个机会与您一起交流探讨,建立互联与合作!

                                 

                                展会时间:201891923

                                展会地点:国家会展中心  上海市青浦区盈港东路168

                                SMEE展位:7.2H-E151   6.2H-中心展区




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