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                                SMEE精彩亮相SEMICON China 2018

                                314日,SEMICON China 2018国际半导体展在新国际博览中心隆重开幕,SMEE全方位展出了IC、平板显示、LEDMEMS、功率器件领域的相关设备以及整体解决方案,获得众多国内外新老客户关注,吸引了业界专业人士前来咨询、洽谈。同时借展会契机,SMEE推出全新一代超高产率、高精度LED步进投影光刻机——SSB380/10A光刻机。该设备分辨率达1.5微米,拥有53.5mm*33mm超大曝光视场;可以在2/4/6英寸基底之间自适应切换,兼容蓝宝石、硅片、碳化硅、砷化镓等多种材料基底,并支持单平边、双平边、Notch等基底规格。此外,SSB380/10A光刻机还增配可变狭缝、红外对准、背面可见光对准等选配项,满足客户特殊工艺需求。



                                展会同期,公司副总经理陈勇辉博士在“2018中国显示大会——新兴显示论坛”上作了精彩演讲,阐述FPD行业趋势,展望国产高精密显示制造设备未来发展,并与参会专家和业内人士做了深入交流,获得一致好评。


                                 


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