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                                SMEE亮相国家重大科技成就展

                                 国家重大科技成就展于2017420-22日在上海世博展览馆举行,此次展会集中展示我国科技创新“十二五”辉煌成就,我司SSA600/20 ArF步进扫描投影光刻机亮相国家重大科技成就展。

                                高端扫描光刻机被誉为集成电路产业皇冠上的“明珠”,集精密光学、机械、控制、材料等先进科学技术和工程技术于一体,是集成电路制造装备中技术难度最高、价格最昂贵的核心设备。SSA600/20 ArF步进扫描投影光刻机面向超大规模集成电路量产制造领域,兼容200mm300mm硅片,满足先进90nm工艺节点光刻。

                                 

                                 

                                 

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