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                                我司技术团队参加2016年SPIE先进光刻技术会议,收获喜人

                                      2016年2月22日-2月25日,国际光学工程学会(SPIE)举办的先进光刻主题研讨会在美国召开。

                                      年,我司派出的技术交流团队结合公司产品战略和研发方向,深入开展l了调研分析,通过与全球顶尖技术专家交流,了解了目前国际在相关领域的研发进展、技术问题以及战略决策,不仅对于光刻设备最新进展有了更加明确的掌握,同时对于上下游相关工艺应用、技术整合、测量方案以及替代性技术都有了比较深入的理解。

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