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                                我司技术团队参加2015 SPIE先进光刻会议,收获颇丰。
                                      2015年2月22日-26日,我司派技术团队参加国际光学工程学会(SPIE)举办的先进光刻会议。会议期间,我司参会团队就极紫外光刻、光学光刻、测量及工艺过程控制、先进光刻技术的转移应用等领域,与业内技术领先的公司和专家进行了深入的交流和讨论。
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