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                                200系列光刻机 —— TFT曝光


                                SSB225

                                SSB245

                                SSB260

                                SSB200系列投影光刻机采用先进的投影光刻机平台技术,专用于AM-OLED和LCD显示屏TFT电路制造,可应用于2.5代~6代的TFT显示屏量产线。该系列设备具备高分辨率、高套刻精度等特性,支持6英寸掩模,显著降低用户使用成本。
                                   产品特征

                                ● 高精度,分辨率可达1.5μm

                                ● 支持小Mask,可用6英寸掩模实现12英寸屏幕制造

                                ● 具备智能化校准及诊断功能,方便设备参数校调及用户周期性维护

                                ● 快速灵活的客制化服务

                                   主要技术参数

                                 型号

                                分辨率

                                 套刻精度

                                 基板尺寸

                                SSB225/10

                                2μm L/S

                                0.6μm

                                370mm×470mm
                                500mm×500mm

                                SSB225/20

                                1.5μm L/S

                                0.5μm

                                370mm×470mm
                                500mm×500mm

                                 SSB245/10 2μm L/S 0.6μm 730mm×920mm
                                 SSB245/20 1.5μm L/S 0.5μm 730mm×920mm
                                 SSB260/10T 2μm L/S 0.6μm 1300mm×1500mm
                                1500mm×1850mm
                                 SSB260/20T 1.5μm L/S 0.5μm 1300mm×1500mm
                                1500mm×1850mm