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                                600系列光刻机 —— IC前道制造


                                SSA600/20

                                SSC600/10

                                SSB600/10

                                SSX600系列步进扫描投影光刻机采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术,以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术,可满足IC前道制造90nm、110nm、280nm关键层和非关键层的光刻工艺需求。该设备可用于8寸线或12寸线的大规模工业生产。
                                   主要技术参数
                                 型号  SSA600/20  SSC600/10  SSB600/10
                                 分辨率  90nm  110nm  280nm
                                 曝光光源  ArF excimer laser  KrF excimer laser  i-line mercury lamp
                                 镜头倍率  1:4  1:4  1:4
                                 硅片尺寸  200mm或300mm  200mm或300mm  200mm或300mm